光刻設備≠光刻機
一、1931年：魯斯卡使用冷陰極放電電子源和三個電子透鏡改裝高壓示波器，首次實現電子顯微成像。1932年：魯斯卡進一步改進設計，將分辨率提升至50納米，標志著電子顯微鏡進入實用階段。
二、世界上第一臺五坐標聯動數控機床誕生于1959年，由美國辛辛那提公司（cincinnatimilacron）生產。
三、1881年：德國科學家馬克斯·舒勒（maxschuler）發明了第一臺光刻機，用于印刷術。1952年：美國科學家理查德·霍夫（richardhove）和弗雷德里克·特勒（frederickteller）發明了第一臺電子束光刻機，用于半導體制造。1958年：美國德克薩斯儀器公司（texasinstruments）試制成功世界上第一塊平面集成電路，標志著光刻技術開始應用于半導體領域。1959年：荷蘭飛利浦公司研發出第一臺商用光刻機，應用于半導體產業。
1955年，貝爾實驗室的julesandrus和walterl.bond開始采用光刻技術在印刷電路板上制作圖案，使用二氧化硅層在硅片上產生更精細、更復雜的設計。1957年，美國陸軍diandordnancefuse實驗室的jaylathrop和jamesnall獲得了光刻技術的專利，該技術用于沉積約200微米寬的薄膜金屬條。1958年，fairchild的jaylast和robertnoyce制造了首批“步進重復”相機之一，利用光刻技術在單個晶圓上制造了許多相同的硅晶體管。1959年，gca收購了davidw.mann，成為光刻技術的先驅之一。